微弧氧化电解液组成及工艺条件
微弧氧化电解液组成:k2sio3 5~10g/l,微弧氧化电源原理,na2o2 4~6g/l,naf 0.5~1g/l,ch3coona 2~3g/l,na3vo3 1~3g/l;溶液ph为11~13;温度为20~50℃;阴极材料为不锈钢板;电解方式为先将电压迅速上升至300v,钛合金微弧氧化电源,并保持5~10s,然后将阳极氧化电压上升至450v,实验微弧氧化电源,电解5~10min。
两步电解法,---步:将铝基工件在200g/l的钾水玻璃水溶液中以1a/dm2的阳极电流氧化5min;第二步:将经---步微弧氧化后的铝基工件水洗后在70g/l的na3p2o7水溶液中以1a/dm2的阳极电流氧化15min。阴极材料为:不锈钢板;溶液温度为20~度为20~50℃微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线





微弧氧化技术的优势
采用微弧氧化技术对铝镁钛等轻金属及其合金材料进行表面强化处理,微弧氧化处理后的铝基表面陶瓷膜层具有硬度高,耐蚀性强,绝缘性好,膜层与基底金属结合力强,微弧氧化电源,并具有---的耐磨和耐热冲击等性能。微弧氧化电解液电解液抗污染能力强和再生重复使用率高,因而对环境污染小,区别于传统的电镀非常,也符合我国可持续发展战略的需要。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源、微弧氧化工艺
微弧氧化
微弧氧化又称等离子体电解氧化、微等离子体氧化等,是通过电解液与相应电参数的组合,在铝、镁、钛等金属及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用,原位生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。在微弧氧化过程中,化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在,因此陶瓷层的形成过程非常复杂,至今还没有一个合理的模型能完全描述陶瓷层的形成。
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