微弧氧化电源-日照微弧技术

微弧氧化技术优势

1、采用碱性电解液，航天微弧氧化电源，对环境污染小。　

2、工艺流程简单，前处理工序少，微弧氧化电源，适于---自动化生产。　

3、允许温度变化范围宽，电解液允许的温度范围一般为10-70℃。　　

4、处理能力强。工件的形状可较复杂，且可处理部分内表面，对异形零件、孔洞、焊缝的可加工能力远远高于其他表面陶瓷化工艺。且对工件的修补和重复加工能力投强。　　

5、电源模式一般采用交流或脉冲方式，这种方式具有较高能量，且生成的陶瓷膜性能比直流电源的高。

微弧氧化技术特点

（1）氧化膜具有陶瓷结构特征。

（2）原位生长。

（3）氧化膜均匀增厚。

（4）无污染：无---元素加入，基本无废水排放。

制备工艺简单。

（5）表面硬度高，显微硬度在400至1500hv；

（6）耐磨损性能与硬质合金相当；

（7）耐腐蚀性能：盐雾试验铝合金1000－2000小时 ；镁

合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。

（8）耐热性能：300℃水中淬火35次未见变化，1300℃

冲击5次不脱落、不龟裂。

（9）绝缘性能：膜厚不同，表面电阻达  109－12ω